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三仲丁基硼氫化鋰（LiBH4）是一種氫化鋰衍生物，在以下領域具有一定的應用：

醫藥行業

1. 化學合成劑：三仲丁基硼氫化鋰常被用作有機合成中的還原劑。它可以被用來還原酮、醛等官能團，參與復雜有機分子的合成。

2. 催化劑：三仲丁基硼氫化鋰可以用作某些催化反應的催化劑。例如，在有機合成中，它可用作對不飽和化合物的還原催化劑，促進反應的進行。

3. 藥物合成：三仲丁基硼氫化鋰在藥物合成中也有一定的應用。它可以參與一些特定藥物分子的合成反應，用于構建特定的化學鍵或官能團。

化學合成

1. 還原劑：三仲丁基硼氫化鋰常用作有機合成中的還原劑。它可以將酮、醛等官能團還原為相應的醇或醚。在實驗室中，它常用于合成和改良有機化合物，探索新反應和開發新合成路線。

2. 催化劑：三仲丁基硼氫化鋰也可以作為催化劑參與一些有機合成反應。它可以催化卡賓產生反應、羰基化合物的加成反應等。

3. 氫源：三仲丁基硼氫化鋰可以作為實驗室中的氫源使用。它可以提供反應中需要的氫氣，用于還原、脫氫等反應。

4. 金屬氫化物儲氫材料研究：由于其高氫容量，三仲丁基硼氫化鋰也常用于與金屬氫化物共混或復合，用于研究和開發高容量儲氫材料。

電子行業

1. 鋰離子電池：三仲丁基硼氫化鋰可作為鋰離子電池電解液中的添加劑。它可以提高電池的電導率和離子遷移速率，從而提高電池的充放電性能和循環壽命。

2. 薄膜生長：三仲丁基硼氫化鋰可以用作半導體薄膜生長過程中的前驅物之一。它可以在化學氣相沉積（CVD）或物理氣相沉積（PVD）中作為襯底表面的預處理劑，用于清除表面的氧化物和雜質，并促進優質薄膜的生長。

3. 集成電路制造：三仲丁基硼氫化鋰在集成電路制造中也有一些應用。它可以被用作某些制程中的試劑或催化劑，參與特定的化學反應或改善制備過程。

4. 薄膜沉積：三仲丁基硼氫化鋰可以用作半導體薄膜的化學前驅物。它可以在化學氣相沉積（CVD）或物理氣相沉積（PVD）過程中提供金屬硼原子，用于沉積硼化物薄膜，如硼化硅（SiBx）。

5. 雜質控制：在半導體制造中，控制和調節雜質的含量非常重要。三仲丁基硼氫化鋰可以用作雜質處置劑，去除雜質元素如氧氣、水蒸氣和氮氣等，從而提高半導體材料的純度和性能。

6. 內應力調控：在半導體器件制造過程中，內應力的控制和調節對于晶體的完整性和性能至關重要。三仲丁基硼氫化鋰可用作添加劑或摻雜劑，幫助減緩晶體生長過程中的應力累積，從而改善晶體質量。

需要注意的是，三仲丁基硼氫化鋰的具體應用需要根據制程和要求進行評估和確定。同時，使用三仲丁基硼氫化鋰或其他化學試劑時，必須遵守嚴格的操作規程和安全標準，以確保工作環境無風險并保護工作人員的安全。